聚合反應(yīng)裝置是一種能分解難溶物質(zhì)的密閉容器，可用于原子吸收光譜及等離子發(fā)射等分析中的溶樣預(yù)處理；也可用于小劑量的合成反應(yīng)；還可利用罐體內(nèi)強(qiáng)酸或強(qiáng)堿且高溫高壓密閉的環(huán)境來達(dá)到快速消解難溶物質(zhì)的目的。

　　

　　那么我們?cè)谑褂迷摲磻?yīng)裝置時(shí)有哪些事項(xiàng)是需要我們注意的呢？

　　

　　一、溫度控制

　　

　　聚合溫度控制對(duì)于聚合系統(tǒng)操作是關(guān)鍵的。聚合溫度的控制一般有三種方法：

　　

　　1、通過夾套冷卻水換熱。

　　

　　2、氣相外循環(huán)撤熱。循環(huán)風(fēng)機(jī)、氣相換熱器、聚合反應(yīng)裝置組成氣相外循環(huán)系統(tǒng)，通過氣相換熱器能夠調(diào)節(jié)循環(huán)氣體的溫度，并使其中的易冷凝氣相冷凝，冷凝液流回反應(yīng)裝置，從而達(dá)到控制聚合溫度的目的。

　　

　　3、漿液外循環(huán)撤熱。漿液循環(huán)泵、漿液換熱器和反應(yīng)裝置組成漿液外循環(huán)系統(tǒng)，通過漿液換熱器能夠調(diào)節(jié)循環(huán)漿液的溫度，從而達(dá)到控制聚合溫度的目的。

　　

　　二、壓力控制

　　

　　聚合溫度恒定時(shí)，在聚合單體為氣相時(shí)主要通過催化劑的加熱量和聚合單體的加熱量倆控制聚合壓力，也就是聚合溫度。反應(yīng)裝置氣相中，不凝性惰性氣體的含量過高是造成設(shè)備壓力過高的原因之一。此時(shí)需放火炬，以降低設(shè)備的壓力。

　　

　　三、料位控制

　　

　　高壓聚合釜料位應(yīng)該嚴(yán)格控制。一般液位控制在70%左右，通過聚合漿液的出料速率來控制。連續(xù)聚合時(shí)須有自動(dòng)料位控制系統(tǒng)，以確保料位準(zhǔn)確控制。料位控制過低，聚合產(chǎn)率低；料位控制過高，甚至滿釜，就回造成聚合漿液進(jìn)入換熱器、風(fēng)機(jī)等設(shè)備中，造成事故。

　　

　　四、聚合漿液濃度控制

　　

　　漿液過濃、造成攪拌器電動(dòng)機(jī)電流過高，引起超負(fù)載跳閘、停轉(zhuǎn)，就會(huì)造成聚合反應(yīng)裝置內(nèi)聚合物結(jié)塊，甚至引發(fā)飛溫、爆聚事故。停攪拌是造成爆聚事故的主要原因之一?？刂茲{液濃度主要通過控制溶劑的加入量和聚合產(chǎn)率來實(shí)現(xiàn)。